Kuten kaikki tiedämme, sputterointikohteita on monia eritelmiä, ja niiden sovellusalueet ovat myös erittäin laajat.Myös eri aloilla yleisesti käytetyt kohdetyypit ovat erilaisia.Tänään opitaan sputteroivien kohdesovelluskenttien luokittelusta RSM:n editorin avulla!
1、 Sputtering-kohteen määritelmä
Sputterointi on yksi tärkeimmistä tekniikoista ohutkalvomateriaalien valmistuksessa.Se käyttää ionilähteen tuottamia ioneja kiihtymään ja kerääntymään tyhjiöön muodostamaan nopean ionisuihkun, pommittamaan kiinteää pintaa ja ionit vaihtavat kineettistä energiaa kiinteän pinnan atomien kanssa niin, että kiinteän aineen atomit pinta erotetaan kiinteästä aineesta ja kerrostetaan alustan pinnalle.Pommitettu kiinteä aine on raaka-aine sputteroimalla kerrostetun ohuen kalvon valmistukseen, jota kutsutaan sputterointikohteeksi.
2、 Sputterointikohteen sovelluskenttien luokitus
1. Puolijohdekohde
(1) Yhteiset tavoitteet: yleisiä kohteita tällä alalla ovat korkean sulamispisteen metallit, kuten tantaali / kupari / titaani / alumiini / kulta / nikkeli.
(2) Käyttö: käytetään pääasiassa integroitujen piirien tärkeimpänä raaka-aineena.
(3) Suorituskykyvaatimukset: korkeat tekniset vaatimukset puhtaudelle, koosta, integraatiolle jne.
2. Kohde litteälle näytölle
(1) Yhteiset kohteet: yleisiä kohteita tällä alalla ovat alumiini / kupari / molybdeeni / nikkeli / niobium / pii / kromi jne.
(2) Käyttö: tällaista kohdetta käytetään enimmäkseen erilaisissa laaja-alaisissa elokuvissa, kuten televisioissa ja muistikirjoissa.
(3) Suorituskykyvaatimukset: korkeat puhtausvaatimukset, suuri pinta-ala, tasaisuus jne.
3. Kohdemateriaali aurinkokennolle
(1) Yleiset kohteet: alumiini/kupari/molybdeeni/kromi/ITO/Ta ja muut aurinkokennojen kohteet.
(2) Käyttö: käytetään pääasiassa "ikkunakerroksessa", sulkukerroksessa, elektrodissa ja johtavassa kalvossa.
(3) Suorituskykyvaatimukset: korkeat tekniset vaatimukset ja laaja käyttöalue.
4. Tavoite tiedon tallennusta varten
(1) Yhteiset kohteet: koboltin / nikkelin / ferroseoksen / kromin / telluurin / seleenin ja muiden tietojen tallennusmateriaalien yhteiset kohteet.
(2) Käyttö: tällaista kohdemateriaalia käytetään pääasiassa optisen aseman ja optisen levyn magneettiseen päähän, keskikerrokseen ja pohjakerrokseen.
(3) Suorituskykyvaatimukset: vaaditaan suurta tallennustiheyttä ja suurta siirtonopeutta.
5. Työkalun muokkaustavoite
(1) Yhteiset kohteet: yleiset kohteet, kuten työkaluilla modifioitu titaani/zirkonium/kromi-alumiiniseos.
(2) Käyttö: käytetään yleensä pinnan vahvistamiseen.
(3) Suorituskykyvaatimukset: korkeat suorituskykyvaatimukset ja pitkä käyttöikä.
6. Tähtäimet elektronisille laitteille
(1) Yleiset kohteet: yleiset alumiiniseos-/silikisidikohteet elektroniikkalaitteille
(2) Käyttötarkoitus: käytetään yleisesti ohutkalvovastuksissa ja kondensaattoreissa.
(3) Suorituskykyvaatimukset: pieni koko, vakaus, alhainen vastuksen lämpötilakerroin
Postitusaika: 27.7.2022