Jotkut asiakkaat kysyivät piin ruiskutuskohteista.Nyt RSM-teknologiaosaston kollegat analysoivat piin sputterointikohteita puolestasi.
Pii-sputterointikohde valmistetaan ruiskuttamalla metallia piiharkista.Kohde voidaan valmistaa erilaisilla prosesseilla ja menetelmillä, mukaan lukien galvanointi, sputterointi ja höyrypinnoitus.Edulliset suoritusmuodot tarjoavat lisäksi lisäpuhdistus- ja syövytysprosesseja haluttujen pintaolosuhteiden saavuttamiseksi.Valmistettu kohde on erittäin heijastava, sen karheus on alle 500 angströmiä ja suhteellisen nopea palamisnopeus.Piikohteen valmistamalla kalvolla on alhainen hiukkasluku.
Pii-sputterointikohdetta käytetään ohuiden kalvojen kerrostamiseen piipohjaisille materiaaleille.Niitä käytetään yleisesti näyttö-, puolijohde-, optinen, optinen viestintä- ja lasipinnoitussovelluksissa.Ne soveltuvat myös korkean teknologian komponenttien syövytykseen.N-tyypin piisputterointikohteita voidaan käyttää eri tarkoituksiin.Se soveltuu monille aloille, mukaan lukien elektroniikka, aurinkokennot, puolijohteet ja näytöt.
Pii-sputterointikohde on sputterointilaite, jota käytetään materiaalien kerrostamiseen pinnalle.Yleensä se koostuu piiatomeista.Sputterointiprosessi vaatii tarkan määrän materiaalia, mikä voi olla suuri haaste.Ihanteellisten sputterointilaitteiden käyttö on ainoa tapa valmistaa piipohjaisia komponentteja.On syytä huomata, että piisputterointikohdetta ei käytetä sputterointiprosessissa.
Postitusaika: 24.10.2022