Monet lasinvalmistajat haluavat kehittää uusia tuotteita ja kysyä tekniseltä osastoltamme neuvoja lasin pinnoitustavoitteesta.Seuraava on RSM:n teknisen osaston yhteenveto asiaankuuluvasta tiedosta:
Lasipinnoitteen sputterointikohteena lasiteollisuudessa käytetään pääasiassa vähän säteilyä päällystettyä lasia.Lisäksi magnetronin sputteroinnin periaatetta voidaan käyttää monikerroksisen kalvon ruiskuttamiseksi lasille energiansäästön, valonhallinnan ja koristelun roolin saavuttamiseksi.
Matalasäteilypinnoitettu lasi tunnetaan myös energiaa säästävänä lasina.Viime vuosina energiansäästön ja päästöjen vähentämisen sekä elämänlaadun paranemisen myötä perinteinen rakennuslasi on vähitellen korvattu energiaa säästävällä lasilla.Tämä markkinakysyntä ohjaa sitä, että lähes kaikki suuret lasin syväjalostusyritykset lisäävät nopeasti päällystetyn lasin tuotantolinjaa.
Vastaavasti lasin pinnoituksen kohdemateriaalien kysyntä kasvaa nopeasti.Lasin pinnoitteen sputterointikohdemateriaalit sisältävät pääasiassa kromin sputterointikohteen, titaanisputterointikohteen, nikkelikromi-sputterointikohteen, pii-alumiinin sputterointikohteen ja niin edelleen.Tarkemmat tiedot ovat seuraavat:
Chromium Sputtering Target
Kromisputterointikohteita käytetään laajalti laitteistotyökalujen pinnoitteissa, koristepinnoitteissa ja litteän näytön pinnoitteissa.Rautapinnoitusta käytetään erilaisissa mekaanisissa ja metallurgisissa sovelluksissa, kuten robottityökaluissa, sorvaustyökaluissa, muoteissa (valu, meisto).Kalvon paksuus on yleensä 2-10 um, ja se vaatii suurta kovuutta, alhaista kulumista, iskunkestävyyttä ja kestävyyttä lämpöiskuilla ja korkealla tarttuvuusominaisuuksilla.Nyt kromisputterointikohteita käytetään yleisesti lasipinnoitusteollisuudessa.Tärkein sovellus on autojen taustapeilien valmistelu.Autojen taustapeilien lisääntyvien vaatimusten myötä monet yritykset ovat vaihtaneet alkuperäisestä aluminointiprosessista tyhjiöruiskutuskromiprosessiin.
Titaaninen ruiskutuskohde
Titaanisputterointikohteita käytetään yleisesti laitteistotyökalujen pinnoitteissa, koristepinnoitteissa, puolijohdekomponenteissa ja litteiden näytön pinnoitteissa.Se on yksi integroitujen piirien valmistuksen ydinmateriaaleista, ja vaadittu puhtaus on yleensä yli 99,99 %.
Nikkelikromi sputterointitavoite
Nikkelikromi-sputterointikohdetta käytetään laajalti sieni-nikkeli- ja koristepinnoitusalueiden valmistuksessa. Se voi muodostaa koristepinnoitteen keraamisille pinnoille tai juotoskerroksen piirin laitevalmistuksessa, kun se haihdutetaan tyhjiössä.
Silicon alumiini sputtering Target
Pii-alumiinin sputterointikohdetta voidaan käyttää puolijohteiden, kemiallisen höyrypinnoituksen (CVD) ja fysikaalisen höyrypinnoituksen (PVD) näytössä.
Toinen tärkeä lasin kohdemateriaalin sovellus on valmistaa auton taustapeili, joka sisältää pääasiassa kromikohteen, alumiinikohteen ja titaanioksidikohteen.Autojen taustapeilien laatuvaatimusten jatkuvan parantamisen myötä monet yritykset ovat vaihtaneet alkuperäisestä alumiinipinnoitusprosessista tyhjiöruiskutuskromipinnoitusprosessiin.
Rich Special Materials Co., Ltd. (RSM) sputterointikohteiden valmistajana tarjoamme sputterointikohteiden lisäksi lasin ruiskutuskohteita myös muille aloille.Kuten puhtaan metallin sputterointikohde, metalliseoksen sputterointikohde, keraaminen oksidiruiskutuskohde ja niin edelleen.
Postitusaika: 25.10.2022