Tukkumyynti NiV Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvo-Pvd-pinnoite Mittatilaustyönä valmistettu valmistaja ja toimittaja |Rikas

Nikkeli Vanadiini

NiV Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvoinen Pvd-pinnoite mittatilaustyönä tehty esittelykuva

Lyhyt kuvaus:

Kategoria	Seoksen ruiskutuskohde
Kemiallinen kaava	NiV
Sävellys	Nikkeli Vanadiini
Puhtaus	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Muoto	Levyt, pylväskohteet, kaarikatodit, mittatilaustyöt
Tuotantoprosessi	Tyhjiösulatus
Saatavana koko	P≤4000mm,L≤350mm

Lähetä meille sähköpostia

Tuotetiedot

Tuotetunnisteet

Nickel Vanadium Sputtering Kohteen kuvaus

Kultaa käytetään usein integroidun piirikerroksen pinnoittamiseen, mutta AuSi:n matalassa lämpötilassa sulavaa yhdistettä muodostuu usein, jos kultaa yhdistetään piin kanssa, mikä aiheuttaisi löysyyttä eri kerrosten välillä.Puhdas nikkeli on hyvä valinta liimakerrokseksi, kun taas nikkeli- ja kultakerroksen väliin tarvitaan myös suojakerros leviämisen estämiseksi.Vanadiini voisi täysin täyttää tämän vaatimuksen korkealla sulamispisteellä ja korkealla ampeeritiheydellä.Siksi nikkeli, vanadiini ja kulta ovat kolme materiaalia, joita yleensä käytetään integroitujen piirien teollisuudessa.Nickel Vanadium Sputtering Target valmistetaan lisäämällä vanadiinia sulaan nikkeliin.Alhaisen ferromagnetismin ansiosta se on hyvä valinta elektronisten tuotteiden magnetronisputterointiin, joka voi tuottaa nikkelikerroksen ja vanadiinikerroksen yhdellä kertaa.

Ni-7 V paino-% epäpuhtauspitoisuus

Puhtaus	Pääkomponentti(paino-%)	Epäpuhtaudet kemikaalit（≤ppm）							Epäpuhtaudet yhteensä(≤ ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99,99	7±0,5	20	30	20	100	30	100	20	100
99,95	7±0,5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7±0,5	300	300	300	100	100	200	50	500

Nikkeli-vanadium-sputterointikohdepakkaus

Nikkeli-vanadium-sputterointikohdeemme on selvästi merkitty ja merkitty ulkoisesti tehokkaan tunnistamisen ja laadunvalvonnan varmistamiseksi.Noudatetaan suurta huolellisuutta, jotta vältetään mahdolliset vauriot varastoinnin tai kuljetuksen aikana.

Ota yhteyttä

RSM:n nikkeli-vanadium-sputterointikohteet ovat erittäin puhtaita ja tasalaatuisia.Niitä on saatavana eri muodoissa, puhtauteen, kokoon ja hintaan.Olemme erikoistuneet tuottamaan erittäin puhtaita ohutkalvopinnoitemateriaaleja, joilla on erinomainen suorituskyky sekä suurin mahdollinen tiheys ja pienin mahdollinen keskimääräinen raekoko käytettäväksi muottipinnoituksessa, koristelussa, autonosissa, matalan E-lasin, puolijohdeintegroidun piirin, ohutkalvon valmistuksessa. vastus, graafinen näyttö, ilmailu, magneettinen tallennus, kosketusnäyttö, ohut aurinkoparisto ja muut fyysiset höyrypinnoitussovellukset (PVD).Lähetä meille tiedustelu ruiskutuskohteiden ja muiden listaamattomien pinnoitusmateriaalien nykyisestä hinnoittelusta.

Edellinen: WCu Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvoinen Pvd-pinnoite mittatilaustyönä

Seuraava: NiCr Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvoinen Pvd-pinnoite mittatilaustyönä