Volframisilisidi

Volframisilisidiä WSi2 käytetään sähköiskumateriaalina mikroelektroniikassa, monipiilankojen shuntingissa, hapettumisenestopinnoitteessa ja vastuslankapinnoitteessa.Mikroelektroniikassa kontaktimateriaalina käytetään volframisilisidiä, jonka ominaisvastus on 60-80 μΩcm.Se muodostuu 1000°C:ssa.Sitä käytetään yleensä shunttina monipiilinjoille lisäämään sen johtavuutta ja lisäämään signaalin nopeutta.Volframisilisidikerros voidaan valmistaa kemiallisella höyrypinnoituksella, kuten höyrypinnoituksella.Käytä raaka-ainekaasuna monosilaania tai dikloorisilaania ja volframiheksafluoridia.Pinnostettu kalvo on ei-stökiömetrinen ja vaatii hehkutusta, jotta se muunnetaan johtavampaan stoikiometriseen muotoon.

Volframisilisidi voi korvata aikaisemman volframikalvon.Volframisilisidiä käytetään myös sulkukerroksena piin ja muiden metallien välillä.

Volframisilisidi on myös erittäin arvokas mikroelektromekaanisissa järjestelmissä, joista volframisilisidiä käytetään pääasiassa ohuena kalvona mikropiirien valmistukseen.Tätä tarkoitusta varten volframisilisidikalvo voidaan plasmaetsata käyttämällä esimerkiksi silisidiä.

Rich Special Materials on erikoistunut ruiskutuskohteen valmistukseen ja voi tuottaa volframisilisidiruiskutusmateriaaleja asiakkaiden vaatimusten mukaisesti.Lisätietoja saat ottamalla meihin yhteyttä.